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快科技 5 月 2 日消息，據俄羅斯媒體報道稱，為了推進自研光刻機進度，其已經敲定了相關的合作伙伴。

據悉，俄羅斯方面將為兩大白俄羅斯微電子領域項目提供約 100 億盧布信貸支持，受資助企業(yè)包括集成電路成套工藝領域的 Integral 和精密光刻設備領域的 Planar。

白俄羅斯方面還透露，已經簽署了關于建立兩國光掩模開發(fā)和生產聯(lián)合中心的協(xié)議。" 這將使我們能夠開展聯(lián)合開發(fā)工作并減少白俄羅斯和俄羅斯消費者對進口供應的依賴 "。

資料顯示，Planar 公司（KBTEM-OMO）是東歐最大的半導體設備供應商，已有 50 余年的半導體設備研發(fā)與制造歷史，其產品包括基于激光直寫的圖形發(fā)生器、掩模檢測設備、掩模修補設備、接近 / 接觸光刻機、投影光刻機與硅片檢測設備等。

在這之前，俄羅斯科學院發(fā)豪語 2028 年自行研發(fā)的光刻機將問世，可生產出 7nm 芯片。據報道，國際制裁對俄羅斯斷供后，造成俄國芯片短缺，加以美國、英國和歐盟也祭出多項制裁，幾乎所有擁有先進晶圓制造商都停止與俄羅斯實體合作，ARM 也無法將他們的技術授權給俄羅斯的芯片設計師。

俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構發(fā)豪語，宣稱俄羅斯科學院旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在 2028 年開發(fā)出可以生產 7 納米芯片的光刻機，還可擊敗 ASML 同類產品。

俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者 ASML 近 20 年來一直致力于 EUV 曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。

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